Silikónový čipový substrát

Silikónový čipový substrát

Tento rad substrátov pre kremíkové čipy je starostlivo navrhnutý tak, aby poskytoval nekompromisné riešeniastabilná platforma na výrobu čipov. Podpora celého priemyselného spektra od2-palcové (50 mm) až 12-palcové (300 mm), tieto substráty fungujú ako základ s vysokou{0}}čistotou, ktorý je navrhnutý tak, aby zachoval absolútnu koherenciu mriežky aj pri najintenzívnejších cykloch tepelného a chemického spracovania.

Podpora pre komplexné architektúry zariadení:Substrát je špeciálne navrhnutýpodporuje zložité architektúry zariadenívrátane vysoko{0}}hustotných CMOS, BiCMOS a pokročilých návrhov Power-MOSFET. Minimalizáciou intersticiálnych fluktuácií kyslíka a povrchových kovových nečistôt materiál zaisťuje stabilnú dielektrickú integritu hradla a konzistentné prahové napätie (Vth) naprieč viac-vrstvovými logickými štruktúrami.

Presnosť{0}}Presnosť spracovania: Vynikajúca jednotnosťv radiálnom odpore a sub{0}}mikrónovej variácii celkovej hrúbky (TTV).zlepšuje presnosť spracovania. Táto geometrická presnosť je rozhodujúca pre udržanie stabilnej hĺbky--ostrenia (DOF) počas pokročilej fotolitografie, čím sa znižuje skreslenie vzoru a zabezpečuje sa vysoko{3}}verný prenos prvkov v nanometrovej mierke-.

Konzistentnosť pre-výrobu vo veľkom meradle:Navrhnuté nakonzistentne fungovať v priemyselných podmienkach, naše substráty umožňujú bezproblémovú integráciu do automatizovanej robotickej manipulácie a systémov vysoko{0}}vákuového nanášania. Táto spoľahlivosť ich robíideálne na-výrobu čipov vo veľkom meradle, ktorá poskytuje reprodukovateľnosť šarží-až{1}}požadovanú na stabilizáciu-úrovňového výnosu plátku (WLY) a zníženie celkových nákladov na vlastníctvo (TCO) v globálnych dodávateľských reťazcoch.

Populárne Tagy: kremíkový čipový substrát, Čína výrobcovia kremíkových čipových substrátov, dodávatelia, továreň